力晶宣布與IMEC共同開發(fā)32納米微影技術

時間:2008-02-13

來源:力晶半導體公司

導語:力晶半導體(Powerchip Semiconductor)宣布與比利時微電子研發(fā)中心(IMEC)合作,共同開發(fā)32納米微影技術,以強化該公司在先進內存制程的研發(fā)動能。

力晶半導體(Powerchip Semiconductor)宣布與比利時微電子研發(fā)中心(IMEC)合作,共同開發(fā)32納米微影技術,以強化該公司在先進內存制程的研發(fā)動能。 力晶表示,IMEC的產學合作研發(fā)績效卓著,已在半導體領域累積可觀的科技能量,目前該中心所從事的研發(fā)工作,估計領先業(yè)界需求3至10年。因此IMEC與全球各大企業(yè)、大學與重要研究機構組成強大的研發(fā)網絡,成為影響未來系統(tǒng)科技發(fā)展不可或缺的關鍵伙伴。力晶將與IMEC合作發(fā)展先進顯影技術的研發(fā),并派遣工程人員赴比利時參與相關的研究項目。 力晶董事長黃崇仁指出,由于顯影技術微縮至32納米時,將遇到物理極限,同時研發(fā)費用也將倍數成長,因此聯盟合作開發(fā)的趨勢將會越來越顯著。包含英特爾(Intel)、臺積電(TSMC)在內的國際級半導體大廠,以及三星(Samsung)、美光(Micron)等內存業(yè)者,均已和IMEC建立長期的研發(fā)合作機制。 而隨著力晶規(guī)模成長、技術推進,為避免在先進制程技術開發(fā)中缺席,該公司決定與IMEC簽約,參與此全球性的產學合作研發(fā)網絡,期能加速推進制程,進一步發(fā)揮力晶的高效率量產優(yōu)勢。
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