2014年我國(guó)納米電子器件獲重大突破

時(shí)間:2014-03-17

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導(dǎo)語(yǔ):當(dāng)二維黑磷材料厚度小于7.5納米時(shí),其在室溫下可以得到可靠的晶體管性能,其漏電流的調(diào)制幅度在10萬(wàn)量級(jí),電流—電壓特征曲線展現(xiàn)出良好的電流飽和效應(yīng)。

微尺度物質(zhì)科學(xué)國(guó)家實(shí)驗(yàn)室陳仙輝教授課題組與復(fù)旦大學(xué)張遠(yuǎn)波教授、封東來(lái)教授和吳驊教授課題組合作,在二維類石墨烯場(chǎng)效應(yīng)晶體管研究中取得重要進(jìn)展,成功制備出具有幾個(gè)納米厚度的二維黑磷場(chǎng)效應(yīng)晶體管。

單層原子厚度的石墨烯的發(fā)現(xiàn),標(biāo)志著二維晶體作為一類可能影響人類未來(lái)電子技術(shù)的材料問(wèn)世。然而二維石墨烯的電子結(jié)構(gòu)中不具備能隙,在電子學(xué)應(yīng)用中不能實(shí)現(xiàn)電流的“開(kāi)”和“關(guān)”,這就弱化了其取代計(jì)算機(jī)電路中半導(dǎo)體開(kāi)關(guān)的用途??茖W(xué)家們開(kāi)始探索替換材料,希望克服石墨烯的缺陷,并提出了幾種可能的替換材料,如單層硅、單層鍺,但這些材料在空氣中都不穩(wěn)定,不利于實(shí)際應(yīng)用。進(jìn)一步探索具有新型功能并可實(shí)際應(yīng)用的二維材料具有十分重要的意義和挑戰(zhàn)性。

他們成功制備出基于具有能隙的二維黑磷單晶的場(chǎng)效應(yīng)晶體管。與其他二維晶體材料相比,二維黑磷單晶材料更加穩(wěn)定,但其單晶在常壓下不容易生長(zhǎng)。陳仙輝課題組博士生葉國(guó)俊利用學(xué)校購(gòu)置的高溫高壓合成設(shè)備,在高溫高壓的極端條件下成功生長(zhǎng)出高質(zhì)量的黑磷單晶材料,為實(shí)現(xiàn)二維黑磷單晶材料奠定了基礎(chǔ)。隨后,陳仙輝課題組與張遠(yuǎn)波課題組合作,利用膠帶進(jìn)行機(jī)械剝落的方法,從塊狀單晶中剝出薄片,附著到鍍有一層二氧化硅的硅晶片上,并在此基礎(chǔ)上制備出場(chǎng)效應(yīng)晶體管。

實(shí)驗(yàn)顯示,當(dāng)二維黑磷材料厚度小于7.5納米時(shí),其在室溫下可以得到可靠的晶體管性能,其漏電流的調(diào)制幅度在10萬(wàn)量級(jí),電流—電壓特征曲線展現(xiàn)出良好的電流飽和效應(yīng)。晶體管的電荷載流子遷移率還呈現(xiàn)出對(duì)厚度的依賴性,當(dāng)二維黑磷材料厚度在10納米時(shí),獲得最高的遷移率值大約1000平方厘米每伏每秒。這些性能表明,二維黑磷場(chǎng)效應(yīng)晶體管在納米電子器件應(yīng)用方面具有極大的潛力。

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