盛美研發(fā)出Ultra C SAPS 300 mm 12腔單片清洗設(shè)備
導(dǎo)語(yǔ):集成電路設(shè)計(jì)線寬的不斷縮小,使得對(duì)污染物的控制變得空前嚴(yán)格,直接導(dǎo)致單片清洗工藝步驟的增加,針對(duì)28納米以下集成電路產(chǎn)品,盛美半導(dǎo)體推出最新的UltraCSAPSV300mm12腔單片清洗設(shè)備。
在即將舉辦的SemiconChina2015上,盛美半導(dǎo)體設(shè)備(上海)有限公司(W5,5359展位)將首次展示其最新一代UltraCSAPSV清洗設(shè)備。
12腔設(shè)備概念圖
集成電路設(shè)計(jì)線寬的不斷縮小,使得對(duì)污染物的控制變得空前嚴(yán)格,直接導(dǎo)致單片清洗工藝步驟的增加,針對(duì)28納米以下集成電路產(chǎn)品,盛美半導(dǎo)體推出最新的UltraCSAPSV300mm12腔單片清洗設(shè)備。該清洗設(shè)備配備了12只工藝腔體,占地面積在比上一代8腔體SAPSII只提升12%的同時(shí),但是產(chǎn)能可以提升約50%,從而提升單位面積無(wú)塵室的使用效率以及單步清洗工藝滿足多種清洗需求。
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