2017年出貨11臺，2018年出貨18臺，ASML（阿斯麥）上周表示，計劃在2019年出貨30臺EUV光刻機。
目前，ASML占有全球光刻機市場70%的份額，遠遠領(lǐng)先尼康。更重要的是，僅荷蘭ASML有能力制造和出貨EUV光刻機，尼康的最高技術(shù)水平還停留在ArF氟化氬沉浸式光刻機。
與此同時，ASML將在2019年推出產(chǎn)能更高的新型號TwinscanNXE:3400C，取代現(xiàn)款售價1.2億美元（約合8億）的TwinscanNXE:3400B。3400C的每小時晶圓雕刻能力從155片提升至170片，換裝Cymer公司的340W光源。
ASML計劃2019年出貨30臺EUV光刻機：新型號3400C將亮相
資料顯示，截至去年7月，全球各公司、研究機構(gòu)等總共僅安裝了31臺EUV光刻機。不過，遺憾的是，迄今，大規(guī)模使用EUV（極紫外光刻）技術(shù)的先進工藝仍未量產(chǎn)，三星7nmLPP理論上進度最快，但當下僅限于在S3工廠小規(guī)模投產(chǎn)，年底位于韓國華城、投資6萬億韓元（約合362億元）的工廠竣工后，將是三星7nmEUV主力廠。
另外，臺積電的第二代7nm也將在非關(guān)鍵步驟上采用EUV技術(shù)，Intel、SK海力士也都對EUV光刻機有強烈需求。
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