中微半導體過會,科創(chuàng)板迎來最硬核企業(yè)

時間:2019-06-25

來源: 高工LED

導語:中微半導體成立于2004年,是一家立足中國、面向全球的高端半導體微觀加工設備公司,是我國集成電路設備行業(yè)的領先企業(yè)。

6月21日,中微半導體通過發(fā)審會,科創(chuàng)板最硬核企業(yè)即將登場。

中微半導體.jpg 

資料顯示,中微半導體成立于2004年,是一家立足中國、面向全球的高端半導體微觀加工設備公司,是我國集成電路設備行業(yè)的領先企業(yè)。公司聚焦用于集成電路、LED芯片等微觀器件領域的等離子體刻蝕設備、深硅刻蝕設備和MOCVD設備等關鍵設備的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售。

據(jù)財務數(shù)據(jù)顯示,中微半導體2016年、2017年和2018年營業(yè)收入分別為6.10億元、9.72億元、16.39億元,報告期內年均復合增長率為64.00%。歸屬于母公司所有者的凈利潤分別從虧損2.39億元、虧損0.3億元到實現(xiàn)盈利0.9億元,3年間實現(xiàn)了扭虧為盈。

集成電路是中微半導體主攻領域之一。資料顯示,芯片的“地基”晶圓在制造中有七大類關鍵工藝:光刻,刻蝕,摻雜,薄膜生長,熱處理,拋光和清洗等工藝。

刻蝕設備是晶圓制造中最重要設備之一。從2004年開始研發(fā)相關產(chǎn)品以來,中微半導體目前的刻蝕機已經(jīng)涵蓋65納米、45納米、32納米、28納米、22納米、14納米、7納米到5納米關鍵尺寸的眾多刻蝕應用。其刻蝕機的工藝水平已達世界先進水平。

2017年7月,臺積電宣布,中微半導體被納入其7nm工藝設備商采購名單。去年12月,中微半導體自主研制的5納米等離子體刻蝕機正式通過臺積電驗證,將用于全球首條5納米制程生產(chǎn)線。

目前,高端刻蝕機僅美國上市公司應用材料、東京電子和中微半導體等少數(shù)幾家,能通過臺積電5nm驗證的更少。這也是國內半導體廠商第一次參與世界最先進的芯片研發(fā)生產(chǎn)行列。

在LED芯片生產(chǎn)設備領域,中微半導體的MOCVD設備更是打破了國外壟斷。過去,全球的MOCVD市場基本被維易科和愛思強壟斷,隨著國內越來越多的企業(yè)涉足MOCVD設備,情況發(fā)生了明顯改變。其中,中微半導體更是國產(chǎn)MOCVD設備企業(yè)中的佼佼者。

其招股說明書顯示,2018年中微半導體在MOCVD設備上的銷量為106臺,較去年同期增長85.96%。去年,其銷售MOCVD設備的收入在8.32億,占其總收入的50.76%。在刻蝕設備尚未發(fā)力的階段,MOCVD設備銷售成為公司的主要收入來源。

盡管,維易科和愛思強仍然在全球MOCVD市場占有份額優(yōu)勢,但其地位已經(jīng)明顯不如以往那般穩(wěn)固。隨著國產(chǎn)LED芯片比重的提升,中微半導體有望在MOCVD設備上獲得進一步突破。


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