下一代半導(dǎo)體:一路向?qū)?,一路向?/p>

時(shí)間:2021-09-28

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導(dǎo)語:禁帶的寬度決定了電子躍遷的難度,是半導(dǎo)體的導(dǎo)電性的決定因素之一。禁帶越寬,半導(dǎo)體材料越接近絕緣體,器件穩(wěn)定性越強(qiáng),因而超寬禁帶半導(dǎo)體能應(yīng)用于高溫、高功率、高頻率以及較耐輻照等特殊環(huán)境。

       隨著以氮化鎵、碳化硅為代表的第三代半導(dǎo)體步入產(chǎn)業(yè)化階段,對(duì)新一代半導(dǎo)體材料的探討已經(jīng)進(jìn)入大眾視野。走向產(chǎn)業(yè)化的銻化物,以及國內(nèi)外高度關(guān)注的氧化鎵、金剛石、氮化鋁鎵等,都被視為新一代半導(dǎo)體材料的重要方向。從帶隙寬度來看,銻化物屬于窄帶半導(dǎo)體,而氧化鎵、金剛石、氮化鋁屬于超寬禁帶半導(dǎo)體。新一代半導(dǎo)體材料,將一路向?qū)?,還是一路向窄?

  超寬禁帶半導(dǎo)體:

  “上天入?!?,適用范圍廣泛

  禁帶的寬度決定了電子躍遷的難度,是半導(dǎo)體的導(dǎo)電性的決定因素之一。禁帶越寬,半導(dǎo)體材料越接近絕緣體,器件穩(wěn)定性越強(qiáng),因而超寬禁帶半導(dǎo)體能應(yīng)用于高溫、高功率、高頻率以及較耐輻照等特殊環(huán)境。

  “硅器件工作溫度范圍相對(duì)有限,而超寬禁帶半導(dǎo)體可謂‘上天下海’,適應(yīng)范圍非常寬廣?!敝袊茖W(xué)院半導(dǎo)體研究所研究員閆建昌向《中國電子報(bào)》記者表示。

  在光電子領(lǐng)域,超寬禁帶半導(dǎo)體在紫外發(fā)光、紫外探測(cè)有著廣闊的應(yīng)用空間?;诘X鎵等超寬禁帶半導(dǎo)體的紫外發(fā)光二極管和紫外激光二極管應(yīng)用于殺菌消毒等醫(yī)療衛(wèi)生領(lǐng)域,特定波長的紫外線能幫助人體補(bǔ)鈣。在工業(yè)上,超寬禁帶可用于制造大功率的紫外光源。

  在超寬禁帶半導(dǎo)體中,氮化鋁鎵(氮化鋁和氮化鎵的合金材料)、氧化鎵、金剛石是較有代表性的幾個(gè)方向。

  與氧化鎵、金剛石等禁帶寬度相對(duì)固定的材料不同,氮化鋁鎵的禁帶寬度可以在一定范圍內(nèi)調(diào)節(jié),是一種靈活的半導(dǎo)體材料。

  “通過調(diào)節(jié)鋁的組份,氮化鋁鎵可以實(shí)現(xiàn)不同的禁帶寬度,范圍在氮化鎵的3.4 eV到氮化鋁的6 eV之間。通過合適的比例,可以獲得特定的禁帶寬度,發(fā)射相應(yīng)波長的紫外線,這是一個(gè)有趣也有用的屬性?!遍Z建昌表示。

  在制備技術(shù)方面,氮化鋁鎵已經(jīng)具備了一定的積累。

  “氮化鎵和氮化鋁外延制備的主流方法是MOCVD(金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉積),在工藝、設(shè)備等產(chǎn)業(yè)環(huán)節(jié)已經(jīng)有了二三十年的積累。氮化鋁鎵作為氮化鎵、氮化鋁的合金材料,在外延制備上與兩者有很多相通之處,產(chǎn)業(yè)化已經(jīng)開始起步,預(yù)計(jì)在接下來的3—5年,會(huì)具備規(guī)?;慨a(chǎn)的水準(zhǔn)?!遍Z建昌向記者指出。

  氧化鎵相比寬禁帶半導(dǎo)體具有更高的能量轉(zhuǎn)換效率。目前,氧化鎵材料制備水平進(jìn)展較快,但是外延、器件方面還有很多工作要做。

  “氧化鎵的禁帶寬度比氮化鎵、碳化硅等更寬,功率可以做得更高,也更加省電。氧化鎵的制備條件比較苛刻,目前外延材料以2-3寸的小尺寸為主,量產(chǎn)和應(yīng)用還有一段路要走?!? 西安電子科技大學(xué)郭輝副教授向《中國電子報(bào)》記者表示。

  閆建昌指出,散熱能力不足是氧化鎵的弊端,如何繞開這個(gè)弊端的話,去充分發(fā)揮它在功率器件的優(yōu)勢(shì),是值得關(guān)注的發(fā)展方向。

  金剛石被視為“終極半導(dǎo)體”材料,具有超寬禁帶、高導(dǎo)熱系數(shù)、高硬度的特點(diǎn)。但也由于硬度最高,實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體級(jí)別的高純凈度也最為困難,與產(chǎn)品化、產(chǎn)業(yè)化還有相當(dāng)?shù)木嚯x。

  “金剛石難以實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體級(jí)別的制備和摻雜,但我們可以利用類金剛石或者金剛石顆粒去改善半導(dǎo)體器件的散熱,把金剛石自身的優(yōu)勢(shì)和長處先發(fā)揮出來。”閆建昌說。

  窄禁帶半導(dǎo)體:

  繼續(xù)拓展光譜范圍,集中應(yīng)用在紅外光

  與超寬禁帶半導(dǎo)體相反,銻化物等窄禁帶半導(dǎo)體具有高遷移率、導(dǎo)電性強(qiáng)的特點(diǎn),應(yīng)用領(lǐng)域也集中在紅外線,與超寬禁帶應(yīng)用的紫外線正好分布在光譜兩端??梢哉f,超寬禁帶和窄禁帶半導(dǎo)體拓展了人類對(duì)光譜的利用范圍。

  在光電子領(lǐng)域,銻化物材料體系有希望成為未來紅外成像系統(tǒng)的主要材料體系。據(jù)中科院半導(dǎo)體研究所教授牛智川介紹,傳統(tǒng)紅外光電材料由于均勻性不足、基片面積小、良率極低等瓶頸,難以實(shí)現(xiàn)大陣列、雙色、多色焦平面以及甚遠(yuǎn)紅外焦平面的制造。

  “銻化物在具有高性能的前提下,帶隙調(diào)控適用范圍更廣、成本更低、制造規(guī)模更大,銻化鎵基半導(dǎo)體外延材料技術(shù)已經(jīng)成長為紅外光電器件制造的主流?!迸V谴ㄏ颉吨袊娮訄?bào)》記者表示。

  在微電子領(lǐng)域,銻化物半導(dǎo)體具有超過前三代半導(dǎo)體體系的超高速遷移率,在發(fā)展超低功耗超高速微電子集成電路器件方面潛力重大。

  在熱電器件領(lǐng)域,含銻元素的各類晶體材料具有優(yōu)良的熱電和制冷效應(yīng),是長期以來熱電制冷器件領(lǐng)域的重要技術(shù)方向,具有廣闊的應(yīng)用前景。

  在制備方面,銻化物窄帶隙半導(dǎo)體與砷化鎵、磷化銦等III-V族體系的結(jié)構(gòu)特性、制備工藝類似或兼容,因此不存在量產(chǎn)技術(shù)的障礙,其制備成本主要受單晶襯底晶圓面積、外延材料量產(chǎn)容量、工藝集成技術(shù)良率的制約。

  “隨著功能器件需求放大,基于銻化物的激光器和探測(cè)器制造已經(jīng)在量產(chǎn)方面獲得了充分的驗(yàn)證,在光電子功能的各類應(yīng)用領(lǐng)域制造規(guī)模逐步擴(kuò)大,已經(jīng)具備量產(chǎn)條件。”牛智川指出。

  下一代半導(dǎo)體:

  越走越“寬”還是越“窄”?

  新一代半導(dǎo)體材料是產(chǎn)業(yè)變革的基石。從以硅為代表的第一代半導(dǎo)體材料,以砷化鎵、磷化銦為代表的第二代半導(dǎo)體材料,以氮化鎵、碳化硅為代表的第三代半導(dǎo)體材料,半導(dǎo)體器件的工作范圍和適用場(chǎng)景不斷拓展,為信息社會(huì)的發(fā)展提供有力支撐。

  半導(dǎo)體代表性材料進(jìn)階圖

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       那么,真正具有技術(shù)前景的新一代半導(dǎo)體材料,應(yīng)該具備哪些要素?

  牛智川表示,評(píng)估半導(dǎo)體材料的發(fā)展前景時(shí),應(yīng)注重兩個(gè)指標(biāo)。

  一是能否發(fā)展出高可控性的量產(chǎn)制備技術(shù),這是判斷新體系材料是否具有長期發(fā)展前景的必要前提。在面向?qū)嶋H應(yīng)用發(fā)展的初期階段,必須評(píng)估規(guī)?;a(chǎn)平臺(tái)的可行性,包括大型制造設(shè)備等,并通過小試和中試工程化考驗(yàn),檢驗(yàn)產(chǎn)品良率和器件性能的穩(wěn)定性。

  其次是技術(shù)迭代鏈條是否完善,這是市場(chǎng)化成敗的必要考量。半導(dǎo)體技術(shù)迭代鏈條包括所有技術(shù)環(huán)節(jié)所需的相關(guān)支撐條件是否具備可靠來源,市場(chǎng)周期的波動(dòng)率,用戶對(duì)產(chǎn)品需求性價(jià)比,以及對(duì)比競(jìng)品材料的優(yōu)劣等。

  在具備產(chǎn)業(yè)化前景的基礎(chǔ)上,該如何發(fā)揮材料自身的性質(zhì),使之轉(zhuǎn)化為產(chǎn)業(yè)發(fā)展的動(dòng)力并釋放市場(chǎng)價(jià)值?

  閆建昌表示,每一種材料都有自身的優(yōu)勢(shì)和局限性,要充分發(fā)揮或者挖掘其有利因素,以揚(yáng)長避短。曾經(jīng)業(yè)界認(rèn)為氮化鎵材料缺陷密度太高,不可能用來發(fā)光,但氮化鎵的一些特殊機(jī)制能夠繞開缺陷密度的問題,并基于自身的硬度和化學(xué)穩(wěn)定性等優(yōu)勢(shì)彌補(bǔ)純凈度的不足,贏得了發(fā)展空間。

  “無論氮化鋁鎵、氧化鎵還是金剛石,在器件和產(chǎn)業(yè)發(fā)展上還有很大的空間。發(fā)展的基礎(chǔ)取決于材料本身和材料制備水平,要實(shí)現(xiàn)更低的缺陷密度,把材料的優(yōu)勢(shì)和潛力充分發(fā)掘出來,這是未來超寬禁帶技術(shù)和產(chǎn)業(yè)發(fā)展的基礎(chǔ)?!遍Z建昌說。

  郭輝表示,新材料的上量有一個(gè)過程,要考慮綜合效益,找尋市場(chǎng)地位。

  “在微電子領(lǐng)域,超寬禁帶半導(dǎo)體主要用于功率半導(dǎo)體,既要考慮材料本身的制備成本和功率器件本身的成本,也要考慮器件用在系統(tǒng)內(nèi)的成本。通過綜合效益尋找市場(chǎng)空間,形成市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力?!惫x說。

  牛智川表示,要在扎實(shí)做好實(shí)驗(yàn)室技術(shù)開發(fā)研究基礎(chǔ)上,深入理解材料物性優(yōu)化的基本技術(shù)方法、路徑,全方位建立基礎(chǔ)物理化學(xué)性質(zhì)數(shù)據(jù),形成從設(shè)計(jì)到器件功能實(shí)現(xiàn)的最佳迭代模式。在此基礎(chǔ)上,建設(shè)中試平臺(tái),集中考驗(yàn)實(shí)現(xiàn)高良率工程化制造的技術(shù)流程、方案和規(guī)范。后續(xù)增加用戶定制要求,逐步完善器件的特定功能的量產(chǎn)制造技術(shù)、提高迭代效率,與市場(chǎng)深度融合。

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