關(guān)于寬禁帶半導(dǎo)體材料,有最新動態(tài)!

時(shí)間:2021-09-29

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導(dǎo)語:近年來,我國電子材料產(chǎn)業(yè)取得了長足的進(jìn)步,形成了較為完善的產(chǎn)業(yè)鏈,電子材料門類更加豐富,涵蓋從基礎(chǔ)材料到半導(dǎo)體材料等諸多領(lǐng)域,銷售收入逐年增加,年均增長率達(dá)到7%左右。

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       9月23—25日,記者在廣州舉辦的“2021中國電子材料產(chǎn)業(yè)技術(shù)發(fā)展大會”上獲悉,隨著5G基站、手機(jī)快充以及新能源電動汽車等新興領(lǐng)域?qū)Π雽?dǎo)體器件的功率、效率、散熱以及小型化提出更高要求,以碳化硅(SiC)和氮化鎵(GaN)為代表的寬禁帶半導(dǎo)體正得到廣泛應(yīng)用,并加速進(jìn)入黃金發(fā)展期。

  近年來,我國電子材料產(chǎn)業(yè)取得了長足的進(jìn)步,形成了較為完善的產(chǎn)業(yè)鏈,電子材料門類更加豐富,涵蓋從基礎(chǔ)材料到半導(dǎo)體材料等諸多領(lǐng)域,銷售收入逐年增加,年均增長率達(dá)到7%左右。2020年,國內(nèi)電子材料行業(yè)全年產(chǎn)值7360億元。

  2021年3月通過的《中華人民共和國國民經(jīng)濟(jì)和社會發(fā)展第十四個五年規(guī)劃和2035年遠(yuǎn)景目標(biāo)綱要》,其中“集成電路”領(lǐng)域,特別提出碳化硅、氮化鎵等寬禁帶半導(dǎo)體要取得發(fā)展。

  根據(jù)IHS Markit數(shù)據(jù),到2025年SiC功率器件的市場規(guī)模將達(dá)到30億美元,年復(fù)合增長率將達(dá)到30.4%。SiC襯底正在向大尺寸方向發(fā)展,未來10年4英寸SiC單晶襯底將逐步被6~8英寸襯底取代,從而進(jìn)一步降低功率器件成本。受益于復(fù)雜國際環(huán)境和政策推動,本土SiC單晶襯底近幾年發(fā)展迅速。

  中國電子科技集團(tuán)有限公司電子功能材料領(lǐng)域首席科學(xué)家馮志紅表示,電動汽車對SiC產(chǎn)品可靠性要求甚高,降低缺陷是單晶襯底和外延技術(shù)發(fā)展的重要方向之一,目前主流廠商有能力制備低微管密度襯底,TSD(螺旋位錯)、BPD(基面位錯)密度的降低將成為襯底廠商研發(fā)工作的重點(diǎn)。據(jù)悉,SiC襯底成本占功率器件總價(jià)格約47%,因此,它是降低SiC功率器件成本的決定因素。

  “今后30年,市場競爭更加激烈,襯底價(jià)格將進(jìn)一步緩慢下降,電動汽車成為SiC器件的主要增長動力,預(yù)測5年內(nèi)SiC功率器件年復(fù)合增長率高達(dá)28%。”馮志紅說。

  在談到GaN發(fā)展時(shí),馮志紅表示,目前GaN外延用的半絕緣SiC單晶襯底正在向大尺寸方向發(fā)展,未來10年4英寸SiC單晶襯底將逐步被6英寸取代,以降低GaN射頻功率器件價(jià)格。同時(shí),GaN新型異質(zhì)結(jié)材料有望拓展GaN高頻應(yīng)用市場。目前,用于GaN外延的Si襯底尺寸主流是6英寸,未來5年將擴(kuò)展至8英寸,未來10~15年內(nèi)將擴(kuò)展至12英寸,這使得外延片單位面積價(jià)格會大幅降低。

  Yole的報(bào)告顯示,去年功率GaN市場容量翻倍,主要緣于華為、蘋果、小米、三星等廠商快充應(yīng)用的滲透,今后仍將保持快速增長態(tài)勢,并有望向電動汽車領(lǐng)域滲透。馮志紅指出,目前,主流廠商已經(jīng)完成100mm直徑GaN單晶襯底研發(fā)工作,正在進(jìn)入量產(chǎn)階段,少部分廠商正在進(jìn)行150mm直徑研發(fā)工作,預(yù)計(jì)5年內(nèi),襯底單位面積價(jià)格會伴隨直徑100mm襯底的快速推廣而小幅下降。

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