ASML介紹新一代高NA EUV光刻機(jī):芯片縮小1.7倍、密度增加2.9倍
時(shí)間:2021-12-15
來(lái)源:
按照業(yè)內(nèi)預(yù)判,2025年前后半導(dǎo)體在微縮層面將進(jìn)入埃米尺度(?,angstrom,1埃 =
0.1納米),其中2025對(duì)應(yīng)A14(14?=1.4納米)。除了新晶體管結(jié)構(gòu)、2D材料,還有很關(guān)鍵的一環(huán)就是High
NA(高數(shù)值孔徑)EUV光刻機(jī)。根據(jù)ASML(阿斯麥)透露的最新信息,第一臺(tái)原型試做機(jī)2023年開(kāi)放,預(yù)計(jì)由imec(比利時(shí)微電子研究中心)裝機(jī),2025年后量產(chǎn),第一臺(tái)預(yù)計(jì)交付Intel。
Gartner分析師Alan Priestley稱(chēng),0.55NA下一代EUV光刻機(jī)單價(jià)將翻番到3億美元。
那么這么貴的機(jī)器,到底能實(shí)現(xiàn)什么呢?
ASML發(fā)言人向媒體介紹,更高的光刻分辨率將允許芯片縮小1.7倍、同時(shí)密度增加2.9倍。未來(lái)比3nm更先進(jìn)的工藝,將極度依賴(lài)高NA
EUV光刻機(jī)。
當(dāng)然,ASML并不能獨(dú)立做出高NA EUV光刻機(jī),還需要德國(guó)蔡司以及日本光刻膠涂布等重要廠(chǎng)商的支持。
ASML現(xiàn)售的0.33NA EUV光刻機(jī)擁有超10萬(wàn)零件,需要40個(gè)海運(yùn)集裝箱或者4架?chē)姎庳洐C(jī)才能一次性運(yùn)輸完成,單價(jià)1.4億美元左右。
去年ASML僅僅賣(mài)了31臺(tái)EUV光刻機(jī),今年數(shù)量提升到超100臺(tái)。
中傳動(dòng)網(wǎng)版權(quán)與免責(zé)聲明:
凡本網(wǎng)注明[來(lái)源:中國(guó)傳動(dòng)網(wǎng)]的所有文字、圖片、音視和視頻文件,版權(quán)均為中國(guó)傳動(dòng)網(wǎng)(www.treenowplaneincome.com)獨(dú)家所有。如需轉(zhuǎn)載請(qǐng)與0755-82949061聯(lián)系。任何媒體、網(wǎng)站或個(gè)人轉(zhuǎn)載使用時(shí)須注明來(lái)源“中國(guó)傳動(dòng)網(wǎng)”,違反者本網(wǎng)將追究其法律責(zé)任。
本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明其他來(lái)源的稿件,均來(lái)自互聯(lián)網(wǎng)或業(yè)內(nèi)投稿人士,版權(quán)屬于原版權(quán)人。轉(zhuǎn)載請(qǐng)保留稿件來(lái)源及作者,禁止擅自篡改,違者自負(fù)版權(quán)法律責(zé)任。
如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問(wèn)題,請(qǐng)?jiān)谧髌钒l(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。
下一篇:
?
機(jī)械工業(yè)信息研究院石勇: 新時(shí)期 推動(dòng)制造業(yè)高質(zhì)量發(fā)展的三點(diǎn)措施?
在今日舉辦的2021施耐德電氣綠色智能制造創(chuàng)新峰會(huì)上,機(jī)械工業(yè)信息研究院副院長(zhǎng)石勇云端出席并發(fā)表了主題為“‘十四五’制造業(yè)高質(zhì)量發(fā)展新動(dòng)力”的演講,分...