“中國不太可能獨立復制(replicate)出頂尖的光刻技術，因為阿斯麥依賴于不懈的創(chuàng)新，以及整合只有從非中國供應商處才能獲得的零部件。但我的意思并不是絕對不可能，因為中國的物理定律和我們這里是一樣的。永遠別那么絕對(Never say never)，他們肯定會嘗試的?！碑?shù)貢r間1月19日，荷蘭光刻機巨頭阿斯麥(ASML)CEO溫彼得(Peter Wennink)表示。

　　光刻是芯片制造的核心環(huán)節(jié)，也是研發(fā)難度最大的半導體設備。目前，阿斯麥壟斷著全球最頂尖的光刻機市場，該公司也因此被美國視為圍堵中國大陸芯片產(chǎn)業(yè)發(fā)展的“政治棋子”。溫彼得在做出上述表述的同時還透露，阿斯麥尚未獲得向中國大陸出口最先進光刻機的許可，但一些生產(chǎn)成熟制程的光刻機出口并不受限制。

　　CINNO Research半導體事業(yè)部總經(jīng)理Elvis Hsu在接受觀察者網(wǎng)采訪時表示，光刻機是半導體制造設備價格占比最高的部分約25-30%，其研發(fā)難點在于曝光光源、對準系統(tǒng)和透光鏡頭等技術的整合，以及龐大資金投入。目前，國內技術領先的光刻機研制廠家是上海微電子，可以穩(wěn)定生產(chǎn)90/65nm制造工藝的光刻機。

　　剛過去的2021年是全球芯片短缺最嚴重的一年，作為半導體制造關鍵設備提供商，阿斯麥1月19日也拿出一份亮眼業(yè)績。財報顯示，阿斯麥2021年總營收為186億歐元(約合人民幣1339億元)，同比增長33%;凈利潤為59億歐元(約合人民幣425億元)，同比增長66%;毛利率為53%，比上年同期提高4個百分點。

　　阿斯麥CEO溫彼得表示，2021年營收中有63億歐元來自42個EUV系統(tǒng)(極紫外光刻機)訂單，比上年多11個。該公司在過去一年經(jīng)歷許多挑戰(zhàn)，市場需求比最大產(chǎn)能高出40%至50%。為提高對客戶的支持，該公司選擇縮短周期以運送更多設備，主要通過快速發(fā)貨流程跳過工廠的一些測試，并在客戶現(xiàn)場進行最終測試和正式驗收。雖然這會使收入確認推遲到客戶正式驗收前，但能幫助客戶提早進行晶圓生產(chǎn)。

　　增加員工數(shù)量，也成為阿斯麥應對需求增長的方法。溫彼得表示，該公司計劃在今年年底前將員工人數(shù)從目前的3.15萬人增加到3.5萬人。他透露，該公司在2021年凈增加4000多名新員工，到2022年底，員工人數(shù)將比2020年底增加近30%。不過，溫彼得表示，該公司可能需要兩到三年才能實現(xiàn)供需平衡。隨著新工廠的建設，到2025年或2026年，全球半導體行業(yè)甚至可能出現(xiàn)“某種程度的供過于求”。

　　單從四季度來看，阿斯麥實現(xiàn)營收50億歐元，毛利率達到54.2%，凈利潤18億歐元;新增訂單金額71億歐元。期內，該公司共出貨82臺光刻系統(tǒng)，環(huán)比上季度增加3臺;其中EUV光刻系統(tǒng)11臺，比上個季度減少4臺;在所有出貨中，73%光刻機被用于邏輯工藝制造，27%的光刻機用于存儲芯片生產(chǎn)。

　　從出貨地來看，中國臺灣依然是阿斯麥的最大市場，四季度有51%的光刻系統(tǒng)發(fā)往當?shù)?，占比環(huán)比提升5個百分點;韓國是該公司第二大市場，同期有27%的光刻系統(tǒng)發(fā)往當?shù)?，占比環(huán)比下降6個百分點;中國大陸是阿斯麥第三大市場，四季度有22%的光刻系統(tǒng)向當?shù)爻鲐?，占比提?2個百分點。2021年三季度，美國和日本分別在阿斯麥出貨中占比10%和1%，但四季度占比均意外降為0，具體原因尚不清楚。

　　阿斯麥光刻機出貨信息

　　過去幾年，阿斯麥一直在研發(fā)高數(shù)值孔徑(0.55 NA)EUV光刻機。這種EUV光刻機采用最新的光學設計，具有更高的分辨率(由13nm升級到8nm)，可以使芯片面積縮小1.7倍，晶體管密度增加2.9倍。與目前的0.33 NA EUV光刻機相比，0.55 NA光刻機可以顯著提高良率、降低成本和縮短生產(chǎn)周期。當然，0.55 NA光刻機的價格也相當昂貴，每臺售價約為3億美元(約合人民幣19億元)，比0.33 NA光刻機售價高出一倍。

　　目前，臺積電等生產(chǎn)7nm-5nm制程的芯片采用的都是0.33 NA EUV光刻機，而第一代0.55 NA光刻機TWINSCAN EXE：5000還在研發(fā)過程中，預計2023年上市。早在2018年，英特爾就率先向阿斯麥下單第一代0.55 NA EUV光刻機，該公司也有望成為首個高數(shù)值孔徑EUV光刻機的使用者，并將其用于3nm及以下制程。

阿斯麥NXE3400型EUV光刻機(0.33 NA) 圖源：阿斯麥官網(wǎng)

　　在本次披露財報時，阿斯麥透露，該公司在2021年四季度收到一份TWINSCAN EXE：5000光刻機訂單，累計訂單達到5份。與此同時，該公司還在2022年初收到下一代高數(shù)值孔徑EUV光刻機TWINSCAN EXE:5200的首份訂單，下單的還是英特爾。從路線圖來看，TWINSCAN EXE：5200預計最快2024年底投入使用，2025年開始大規(guī)模應用于2nm甚至以下先進制程的生產(chǎn)。國外曾有分析師直言，“我敢打賭，英特爾為這一權利花了很多錢，因為他肯定不是唯一想先得到這種機器的公司”。

　　展望新一年的業(yè)績，阿斯麥預計其2022年一季度銷售收入約為33億-35億歐元，環(huán)比下滑30%-34%。溫彼得對此解釋稱，由于大量的快速出貨，約有20億歐元的預期收入將從第一季度轉移到后續(xù)季度，這也是該公司一季度預期銷售額較低的原因?？v觀全年，即使考慮到目前6個EUV系統(tǒng)的快速出貨相關收入將轉移至2023年，該公司2022年的營收增長仍將達20%左右。

　　但這個說法遭到中國臺灣半導體分析師陸行之的質疑。他提到，2021年四季度，阿斯麥存儲器芯片用光刻機營收占比環(huán)比下滑12個百分點，同期確認收入的EUV也低于原預期，或許是韓國三星、海力士因為DRAM(動態(tài)隨機存儲器)合約價格下滑，要求延遲付EUV的款項給阿斯麥。因為既然是快速出貨，理論上應該也是快速或準時付款，但現(xiàn)在阿斯麥快速出貨卻被延遲付款，怎么解釋都顯得很奇怪。

　　在發(fā)布本次財報前，阿斯麥柏林工廠曾發(fā)生火災。TrendForce集邦咨詢向觀察者網(wǎng)提供的一份報告顯示，阿斯麥德國柏林工廠火災對晶圓代工及存儲器而言，將可能對EUV光刻機設備制造產(chǎn)生較大影響。而根據(jù)該機構掌握的信息，阿斯麥所需的零部件亦不排除通過其他廠區(qū)取得，加上目前EUV設備交期相當長，因此實際對EUV供應的影響仍有待觀察。而阿斯麥方面也預計柏林火災不會對其2022年的系統(tǒng)出貨產(chǎn)生重大影響。

　　從2018年開始，阿斯麥就試圖向中國大陸銷售EUV光刻機，希望進一步進入中國大陸市場，但荷蘭政府一直未批準其出口許可申請。在美國的持續(xù)施壓之下，這一請求已被荷蘭官員擱置。溫寧克在財報發(fā)布當天表示，他擔心進一步的出口限制?！拔覍θ魏握扇〉某隹诠苤拼胧┒几械綋鷳n。我們嚴重缺乏成熟的半導體技術，我們需要成熟的制造能力。”

　　“出口管制將加快中國自主研發(fā)，15年時間里他們將做出所有的東西”、“中國完全自主掌控供應鏈之后，歐洲供應商將徹底失去市場”，其實溫彼得去年4月就已經(jīng)公開表達焦慮，但美國一直選擇視而不見。