而基于當(dāng)前大家都懂的外部形勢(shì)，要想真正的減少進(jìn)口，提高自給率，其實(shí)要求是國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體供應(yīng)鏈能夠崛起，特別是半導(dǎo)體設(shè)備，能夠達(dá)到先進(jìn)工藝，這樣才不會(huì)被卡脖子。

　　那么問(wèn)題就來(lái)了，目前所有國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備中，究竟哪一種是最落后的，最需要突破的?其實(shí)最落后的，就是大家最熟悉的光刻機(jī)。我們知道芯片制造過(guò)程中，工序特別多，需要的半導(dǎo)體設(shè)備也特別多，但主要可以分為三個(gè)主要步驟，那就是單晶硅片制造、前道工序、單晶硅片制造就是把砂子變成晶圓的過(guò)程，這一塊目前國(guó)內(nèi)有300mm的晶圓，可以用于10nm以下，所以這一塊的國(guó)產(chǎn)設(shè)備，并不落后。

　　而前道工序這里有8個(gè)主要流程，分別是擴(kuò)散、薄膜沉積、光刻、刻蝕、離子注入、CMP拋光、金屬化、測(cè)試，所以至少有8種關(guān)鍵設(shè)備。這8種關(guān)鍵設(shè)備里面，只有國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)目前還在90nm，其它的設(shè)備大多到了28nm，甚至14nm的程度，有些甚至到了5nm，3nm，比如刻蝕機(jī)。而后道工序主要是指封測(cè)這一塊，目前國(guó)內(nèi)有三大廠商，早就到了5nm，基本上國(guó)內(nèi)也是處于全球先進(jìn)水平的?？梢?jiàn)，綜合起來(lái)看，真正最拖后腿的就是國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)了，還在90nm，而芯片制造是遵循短板理論的，能夠制造多少nm的芯片，取決于最落后的那一環(huán)，所以光刻機(jī)必須突破，所以永遠(yuǎn)拖后腿，嚴(yán)重阻礙國(guó)產(chǎn)芯片的崛起了。

　　2021年中國(guó)光刻機(jī)現(xiàn)在納米精度達(dá)到多少，依據(jù)現(xiàn)有公開(kāi)的為90納米，對(duì)于65nm光刻機(jī)進(jìn)行整機(jī)考核，目前小編還沒(méi)聽(tīng)聞相關(guān)消息，不過(guò)對(duì)于國(guó)內(nèi)來(lái)說(shuō)，光刻機(jī)的路程還是有一段路要走的，對(duì)于光刻機(jī)所搭配的ups不間斷電源或?qū)ps電源用于相關(guān)場(chǎng)所的話，是可以直接咨詢(xún)我們優(yōu)比施廠家提供完善解決方案。

　　目前，中國(guó)光刻機(jī)主要包括上海微電子設(shè)備有限公司、中子技術(shù)集團(tuán)公司國(guó)電，第45研究院，以及芯碩，合肥半導(dǎo)體有限公司、先騰光電科技、無(wú)錫影速半導(dǎo)體科技。

　　其中，上海微電子設(shè)備有限公司量產(chǎn)了90nm，這是中國(guó)最先進(jìn)的技術(shù)，國(guó)家重大科技項(xiàng)目65nm光刻機(jī)，正在研發(fā)中，整機(jī)正在考核中。

　　對(duì)于光刻機(jī)技術(shù)來(lái)說(shuō)，90納米是一個(gè)技術(shù)步驟;45納米是一個(gè)技術(shù)步驟;22納米是一個(gè)技術(shù)步驟.把90納米的技術(shù)升級(jí)到65納米并不難，但是45納米比65納米難多了。

　　我們要一步一個(gè)腳印的走下去，中國(guó)16個(gè)重大專(zhuān)項(xiàng)中的02專(zhuān)項(xiàng)提出，到2020年光刻機(jī)要達(dá)到22nm。目前主流是45nm，而32nm和28nm都需要在深紫外光刻機(jī)上進(jìn)行改進(jìn)和升級(jí)

　　光刻機(jī)的固態(tài)深紫外光源也正在研究和開(kāi)發(fā)中。光刻機(jī)在中國(guó)的研發(fā)是并行的，22納米光刻機(jī)使用的技術(shù)也在研發(fā)升級(jí)45納米。

　　中國(guó)28納米光刻機(jī)最新進(jìn)展：

　　由于長(zhǎng)期的技術(shù)封鎖，我們的軍用芯片大部分都是自己做的。這條新聞清楚地告訴公眾一個(gè)常識(shí)。我們擁有全套的軍用芯片制造設(shè)備和制造技術(shù)。我們知道如何制造芯片，我們也有自己的光刻機(jī)光刻機(jī)不是空白!全國(guó)人民可以放心，我們目前的缺點(diǎn)是民用芯片的設(shè)備和制造。

　　以前只是因?yàn)槭袌?chǎng)和成本，民用產(chǎn)品都是用進(jìn)口設(shè)備做的!光刻機(jī)，芯片制造的核心設(shè)備，已經(jīng)成為國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體發(fā)展的絆腳石。

　　目前最高端的光刻機(jī)來(lái)自荷蘭ASML，幾乎壟斷了整個(gè)市場(chǎng)?，F(xiàn)在供不應(yīng)求，一年只能生產(chǎn)30多臺(tái)。當(dāng)全球缺芯危機(jī)來(lái)臨時(shí)，行業(yè)巨頭臺(tái)積電和三星直接壟斷了7nm芯片業(yè)務(wù)，因?yàn)樗麄儞碛泻商mASML的EUV光刻機(jī)。

　　雖然短期內(nèi)局限于民用芯片領(lǐng)域，但我們要擔(dān)心的是，手機(jī)、電腦等民用芯片的制造和生產(chǎn)只是時(shí)間問(wèn)題!

　　前段時(shí)間，央視也報(bào)道了一個(gè)好消息。國(guó)內(nèi)首款高能光源機(jī)也已進(jìn)入安裝調(diào)試階段。該設(shè)備由中國(guó)科學(xué)院高能物理研究所自主研發(fā)，可以說(shuō)突破了這種高能輻射光源在安裝應(yīng)用中的諸多難題。毫不夸張地說(shuō)，我們不缺資金、不缺人才、不缺精神、只缺一點(diǎn)時(shí)間。

　　從目前我們的掩模對(duì)準(zhǔn)器和民用芯片的制造速度來(lái)看，我們已經(jīng)開(kāi)始實(shí)施研發(fā);所有方面的項(xiàng)目。目前28nm掩模對(duì)準(zhǔn)器已經(jīng)成功，可以滿足中國(guó)80%以上的芯片應(yīng)用至于軍用芯片，我們可以100%滿足自己的需求。民用芯片大規(guī)模爆炸只是時(shí)間問(wèn)題!

　　近來(lái)國(guó)際局勢(shì)風(fēng)起云涌，以美國(guó)為首的西方國(guó)家不斷炮制涉華謠言，粗暴干涉中國(guó)內(nèi)政。前不久美國(guó)芯片大廠英特爾公開(kāi)站隊(duì)，與滿嘴謊言的美國(guó)政府為伍。這一“吃中國(guó)飯還砸中國(guó)碗”的無(wú)恥行徑立即在我國(guó)社交媒體上掀起軒然大波，英特爾代言人王俊凱通過(guò)工作室發(fā)表聲明，宣布即日起終止與英特爾品牌的一切合作，獲得輿論力挺;各大社交媒體上針對(duì)英特爾的譴責(zé)聲音層出不窮，引來(lái)外媒關(guān)注。正如網(wǎng)友所言，英特爾占據(jù)的壟斷地位使得現(xiàn)階段我們無(wú)法真正對(duì)其進(jìn)行抵制，關(guān)鍵還是在芯片領(lǐng)域，我國(guó)仍需不斷努力。

　　此前在本月中旬，我國(guó)一企業(yè)官宣好消息，發(fā)布公告稱(chēng)已經(jīng)到位5臺(tái)光刻機(jī)。那么這些光刻機(jī)能發(fā)揮什么作用呢?中國(guó)芯能否實(shí)現(xiàn)“逆風(fēng)翻盤(pán)”?眾所周知，光刻機(jī)是制造芯片的重要設(shè)備，其種類(lèi)也非常多。根據(jù)應(yīng)用領(lǐng)域不同，可作用于芯片光刻，封裝等等。光刻機(jī)的主要作用是對(duì)光刻膠進(jìn)行曝光測(cè)試，提升產(chǎn)品品質(zhì)。

　　正如上述所言，光刻膠對(duì)于我國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)而言至關(guān)重要，光刻膠是芯片生產(chǎn)過(guò)程中不可或缺的材料，也是影響芯片制程工藝的關(guān)鍵因素。和光刻機(jī)一樣，我國(guó)光刻膠長(zhǎng)期受制于人，嚴(yán)重依賴(lài)日本和美國(guó)企業(yè)輸送，這對(duì)于我國(guó)芯片產(chǎn)業(yè)而言，是不容忽視的隱患。正是因?yàn)槊靼走@一點(diǎn)，在國(guó)家大力扶持半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的情況下。我國(guó)半導(dǎo)體材料供應(yīng)商不斷提升對(duì)光刻膠的重視程度，在部分細(xì)分領(lǐng)域，國(guó)產(chǎn)光刻膠品質(zhì)已達(dá)全球第一梯隊(duì)，具備國(guó)產(chǎn)替代的能力。