眾所周知，在芯片的制造過程中，需要的設(shè)備、材料非常多。其中像光刻機(jī)、光刻膠都是當(dāng)前嚴(yán)重卡脖子的產(chǎn)品。
拿光刻膠來說，分為5種，分別是g線、i線、KrF、ArF、EUV。其中g(shù)線、i線主要用于250nm以上工藝，國(guó)內(nèi)的自給率約為20%。
KrF一般用于250nm-130nm工藝，國(guó)內(nèi)的自給率約為5%，ArF一般用于130nm-14nm，2021年之前國(guó)內(nèi)就無法生產(chǎn)，主要靠進(jìn)口，至于EUV光刻膠主要用于7nm及以下工藝，就更加不用說了，完全靠進(jìn)口。
不過從去年開始，國(guó)內(nèi)幾大光刻膠廠商在光刻膠上面有了較大的進(jìn)步，已經(jīng)研發(fā)出了ArF光刻膠，比如南大光電等，去年下半年時(shí)表示已經(jīng)用于50nm制程的存儲(chǔ)芯片上，通過了客戶驗(yàn)證。
而近日，南大光電表示，旗下用于90nm-28nm制程的ArF光刻膠已分別通過存儲(chǔ)芯片制造和邏輯芯片制造企業(yè)驗(yàn)證。
意思是其研發(fā)的ArF光刻膠，已經(jīng)可以用于最高工藝為28nm的存儲(chǔ)芯片和邏輯芯片了，畢竟驗(yàn)證通過后，就可以出貨給客戶了。
南大光電甚至表示，其中一家客戶從去年8月份起，就一直正常購(gòu)買公司的光刻膠產(chǎn)品，只是因?yàn)槭强椭苹a(chǎn)品，暫未形成規(guī)模銷售。
對(duì)此，不知道大家怎么看?光刻膠作為芯片制造中必不可少的材料，用量雖然少，但非常重要，沒有其它替代品，之前一直被日本廠商壟斷著，韓國(guó)都曾被卡住了脖子。
如今中國(guó)廠商能夠推出用于28nm的ArF光刻膠，真的是一個(gè)重大進(jìn)步，相信接下來繼續(xù)推進(jìn)，達(dá)到14nm也不會(huì)太難了。
也希望整個(gè)國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈，也能夠像光刻膠一樣，先進(jìn)推進(jìn)到28nm，再推進(jìn)到14nm，那樣也就沒有太多擔(dān)心的了，畢竟搞定14nm，就能夠生產(chǎn)全球至少80%的芯片了。
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