美國(guó)芯片不好過(guò),臺(tái)積電的先進(jìn)工藝研發(fā)難以為繼

時(shí)間:2022-09-15

來(lái)源:柏銘007

導(dǎo)語(yǔ):隨著美國(guó)芯片的日子難過(guò),據(jù)悉它們已開(kāi)始向臺(tái)積電提出要求降低芯片代工價(jià)格,此舉正導(dǎo)致臺(tái)積電的先進(jìn)工藝研發(fā)循環(huán)被打斷,已到了臺(tái)積電開(kāi)始重新思考芯片制造如何發(fā)展的時(shí)候了。

  在美國(guó)芯片企業(yè)當(dāng)中,除了蘋(píng)果、AMD表現(xiàn)還不錯(cuò)之外,近期陸續(xù)公布業(yè)績(jī)或業(yè)績(jī)預(yù)告的NVIDIA、高通、Intel等都哀鴻遍野,NVIDIA在二季度的利潤(rùn)下滑之后更預(yù)計(jì)業(yè)績(jī)將再降19%,高通出現(xiàn)環(huán)比下滑2%,美國(guó)芯片龍頭老大Intel更是出現(xiàn)20多年來(lái)的首次虧損。

  美國(guó)芯片為臺(tái)積電的最大客戶(hù),為臺(tái)積電貢獻(xiàn)了近七成的收入,它們自身業(yè)績(jī)受損,于是它們紛紛要求臺(tái)積電降低芯片代工價(jià)格,考慮到臺(tái)積電對(duì)美國(guó)芯片和技術(shù)的依賴(lài),恐怕臺(tái)積電將不得不答應(yīng)它們的要求。

  除了未來(lái)的收入可能因?yàn)楸黄冉档托酒r(jià)格導(dǎo)致業(yè)績(jī)受損之外,臺(tái)積電當(dāng)下投入巨資研發(fā)的3nm工藝更是顆粒無(wú)收,本來(lái)3nm工藝預(yù)計(jì)會(huì)有Intel和蘋(píng)果兩家客戶(hù),然而Intel因自家的GPU芯片研發(fā)不順而延遲了兩年選擇舍棄臺(tái)積電的3nm工藝,蘋(píng)果則因3nm工藝量產(chǎn)時(shí)間延遲最終A16處理器采用了N4工藝,近期更有消息指出蘋(píng)果認(rèn)為臺(tái)積電的3nm工藝技術(shù)水準(zhǔn)不達(dá)標(biāo),M3芯片也不會(huì)采用而可能會(huì)采用臺(tái)積電改良后的N3E工藝。

  N3工藝由于缺乏客戶(hù),臺(tái)積電已計(jì)劃暫時(shí)不量產(chǎn)了,它正大舉投資加快N3E工藝的量產(chǎn),希望N3E工藝能趕上蘋(píng)果的M3處理器量產(chǎn)時(shí)間,當(dāng)然更希望N3E工藝的技術(shù)水平可以滿(mǎn)足蘋(píng)果A17處理器的要求而獲得蘋(píng)果的訂單,畢竟臺(tái)積電再承受不起又一個(gè)打擊了。

  事實(shí)上臺(tái)積電當(dāng)下就已經(jīng)面臨打擊,臺(tái)積電當(dāng)下還能維持較高的產(chǎn)能利用率,在于蘋(píng)果的A16處理器正處于高峰期,然而AMD、NVIDIA選擇砍單已讓臺(tái)積電深感憂(yōu)慮,由此臺(tái)積電預(yù)計(jì)隨著A16生產(chǎn)高峰期的過(guò)去,4nm、5nm工藝都將面臨產(chǎn)能過(guò)剩的問(wèn)題,為此它已決定年底前關(guān)閉部分EUV光刻機(jī)已節(jié)省用電成本。

  年底前關(guān)閉部分EUV光刻機(jī)是短期內(nèi)對(duì)業(yè)績(jī)?cè)斐捎绊懀钸h(yuǎn)的影響則是臺(tái)積電此前延續(xù)的投入巨資研發(fā)先進(jìn)工藝,取得先進(jìn)工藝技術(shù)優(yōu)勢(shì)進(jìn)而獲得美國(guó)芯片的采用,再獲得豐厚利潤(rùn)的良性循環(huán)模式可能因此被中斷。

  畢竟對(duì)于先進(jìn)工藝來(lái)說(shuō),越先進(jìn)的工藝越燒錢(qián),越先進(jìn)的工藝難度也越高這也導(dǎo)致風(fēng)險(xiǎn)更高,然而臺(tái)積電在3nm工藝上的巨額投入最終以顆粒無(wú)收,它或許還能再次大手筆投資研發(fā)N3E工藝,可是如果N3E工藝再次延期呢,那么臺(tái)積電還能再次燒錢(qián)么?到如今的3nm及更先進(jìn)工藝,投資都是百億美元計(jì)算,成本昂貴,即使有錢(qián)也無(wú)法如此燒下去啊。

  此外美國(guó)芯片砍單并要求降價(jià)還給臺(tái)積電的美國(guó)工廠(chǎng)造成影響,在美國(guó)的壓力下臺(tái)積電已赴美建廠(chǎng),投資高達(dá)120億美元,然而此時(shí)臺(tái)積電都需要關(guān)閉部分EUV光刻機(jī)了,美國(guó)建設(shè)的工廠(chǎng)是先進(jìn)的5nm,一旦投產(chǎn)只會(huì)導(dǎo)致產(chǎn)能過(guò)剩更為嚴(yán)重,然而美國(guó)芯片連臺(tái)積電在臺(tái)灣的產(chǎn)能都無(wú)法消化,可以說(shuō)臺(tái)積電投資的美國(guó)工廠(chǎng)從投產(chǎn)那刻起就是虧損的生意。

  可以說(shuō)如今的臺(tái)積電已陷入兩難,美國(guó)工廠(chǎng)已經(jīng)在建設(shè)但是已注定是多余的產(chǎn)能,這邊廂大舉投資研發(fā)的3nm工藝無(wú)客戶(hù)采用,還得繼續(xù)大舉投資研發(fā)N3E以及數(shù)年后量產(chǎn)的2nm,這些工藝的研發(fā)都耗資巨大,然而卻可能再度面臨顆粒無(wú)收的局面,顯示出它在接受了美國(guó)的條件后卻開(kāi)始面臨更多的風(fēng)險(xiǎn),這顯然是它所沒(méi)有預(yù)料到的。

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