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　　同時公司還表示“新的出口管制措施并不針對所有浸潤式光刻系統(tǒng)，先進(jìn)程度相對較低的浸潤式光刻系統(tǒng)已能很好滿足成熟制程為主的客戶的需求?！?/p>

　　此前，荷蘭方面在3月8日表示，計(jì)劃對半導(dǎo)體技術(shù)出口實(shí)施新的管制。信中稱，這些管制措施將在今天夏天之前開始實(shí)施。

　　ASML聲明如下：

　　荷蘭政府于今日發(fā)布了有關(guān)即將出臺的半導(dǎo)體設(shè)備出口管制措施的進(jìn)一步的信息。這些新的出口管制措施側(cè)重于先進(jìn)的芯片制造技術(shù)，包括最先進(jìn)的沉積設(shè)備和浸潤式光刻系統(tǒng)。

　　由于該等即將出臺的法規(guī)，ASML將需要申請出口許可證才能發(fā)運(yùn)最先進(jìn)的浸潤式DUV系統(tǒng)。

　　這些管制措施需要一定時間才能付諸立法并生效。

　　基于今日的公告、我們對荷蘭政府許可證政策的預(yù)期以及當(dāng)前的市場形勢，我們預(yù)計(jì)這些管制措施不會對我們已發(fā)布的2023年財務(wù)展望以及于去年11月投資者日宣布的長期展望產(chǎn)生重大性影響。

　　需要重點(diǎn)指出的是：新的出口管制措施并不針對所有浸潤式光刻系統(tǒng)，而只涉及所謂“最先進(jìn)”的浸潤式光刻系統(tǒng)。盡管我們尚未收到有關(guān)“最先進(jìn)”的確切定義的信息，我們將其解讀為我們在資本市場日會議上定義的“關(guān)鍵的浸潤式光刻系統(tǒng)”，即TWINSCANNXT：2000i及后續(xù)推出的浸潤式光刻系統(tǒng)。

　　此外，我們要指出，先進(jìn)程度相對較低的浸潤式光刻系統(tǒng)已能很好滿足成熟制程為主的客戶的需求。最后，ASML的長期展望的基礎(chǔ)是全球長期需求和技術(shù)趨勢，而不是對具體地域的預(yù)期。

　　自2019年以來，ASML的EUV光刻系統(tǒng)已經(jīng)受到限制。