中國科研團(tuán)隊第四代半導(dǎo)體氧化鎵領(lǐng)域獲重要突破

時間:2024-04-19

來源:廈門大學(xué)

導(dǎo)語:近日,廈門大學(xué)電子科學(xué)與技術(shù)學(xué)院楊偉鋒教授團(tuán)隊在第四代半導(dǎo)體氧化鎵(β-Ga2O3)外延生長技術(shù)和日盲光電探測器制備方面取得重要進(jìn)展,為β-Ga2O3異質(zhì)外延薄膜的大面積生長和高性能的器件應(yīng)用提供了重要支持。

       近日,廈門大學(xué)電子科學(xué)與技術(shù)學(xué)院楊偉鋒教授團(tuán)隊在第四代半導(dǎo)體氧化鎵(β-Ga2O3)外延生長技術(shù)和日盲光電探測器制備方面取得重要進(jìn)展,為β-Ga2O3異質(zhì)外延薄膜的大面積生長和高性能的器件應(yīng)用提供了重要支持。

  β-Ga2O3材料因其本征日盲光吸收(254 nm),簡單二元組成,帶隙可調(diào),制備工藝簡單等優(yōu)勢在日盲光電探測器領(lǐng)域受到廣泛關(guān)注。在β-Ga2O3薄膜生長方面,研究團(tuán)隊利用分子束外延技術(shù)(MBE)實現(xiàn)了高質(zhì)量、低缺陷密度的外延薄膜生長。并通過改變反應(yīng)物前驅(qū)體和精密控制生長參數(shù),成功實現(xiàn)了β-Ga2O3外延薄膜的均勻生長和優(yōu)良的晶體質(zhì)量,有力地推動了β-Ga2O3薄膜的高質(zhì)量異質(zhì)外延的發(fā)展。同時,研究團(tuán)隊還通過對MBE外延生長過程中的β-Ga2O3薄膜生長機(jī)制進(jìn)行詳細(xì)探究,揭示了其成核、生長的差異性,并建立了相對應(yīng)的外延生長機(jī)理模型圖。

  在β-Ga2O3日盲光電探測器制備方面,研究團(tuán)隊基于II型能帶結(jié)構(gòu)制備的CuCrO2/β-Ga2O3 p-n異質(zhì)結(jié)型的自供電日盲光電探測器具有6.5 pA的低暗電流、5.7×104的高光暗電流比、50 mA/W的高響應(yīng)度、3.7×1012 Jones的高探測率和24.6%的高外量子效率,優(yōu)于大多數(shù)報道的基于β-Ga2O3的異質(zhì)結(jié)光電探測器。

  另外,研究團(tuán)隊在MBE異質(zhì)外延β-Ga2O3生長機(jī)制的基礎(chǔ)上,結(jié)合半導(dǎo)體光電響應(yīng)原理,探究了異質(zhì)外延β-Ga2O3薄膜日盲光電探測器的性能指標(biāo)。研究團(tuán)隊利用臭氧作為前驅(qū)體所制備的金屬-半導(dǎo)體-金屬結(jié)構(gòu)日盲光電探測器表現(xiàn)出7.5 pA的暗電流、1.31×107的光暗電流比、1.31×1015 Jones的比檢測率和 53 A/W的光響應(yīng)度,表現(xiàn)出相當(dāng)優(yōu)異的對日盲紫外光的探測性能。

  同時針對外延薄膜光電探測器暗電流大的不足,研究團(tuán)隊在金半界面處引入了鈍化層改善器件性能:利用AlN/β-Ga2O3界面工程對金半界面處的載流子傳輸進(jìn)行調(diào)控,所制備的金屬-絕緣體-半導(dǎo)體-絕緣體-金屬(MISIM)結(jié)構(gòu)的日盲光電探測器實現(xiàn)了響應(yīng)度和響應(yīng)速度的同時優(yōu)化。具有 3 nm AlN 層的光電器件表現(xiàn)出482 A/W的響應(yīng)度、2.48×1015 Jones 的比探測率和0.10 s的快下降時間。

  研究團(tuán)隊在β-Ga2O3材料和器件的研究進(jìn)展為超寬禁帶半導(dǎo)體在日盲深紫外探測器領(lǐng)域的應(yīng)用和發(fā)展提供了技術(shù)參考,推動超寬禁帶半導(dǎo)體基光電子技術(shù)的創(chuàng)新發(fā)展,為構(gòu)建低噪聲、高光響應(yīng)的光電子器件開拓了研究途徑。

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