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尼康推出世界上第一臺45納米曝光能力浸入式掃描儀

時間:2007-03-05

來源:網(wǎng)絡(luò)轉(zhuǎn)載

導(dǎo)語:該系統(tǒng)旨在大量生產(chǎn)45納米儀器,還可以被用來開發(fā)32納米儀器和雙圖形儀器。

尼康公司(總裁Michio Kariya)已推出世界上第一個浸沒式光刻系統(tǒng),其曝光結(jié)果達到了45 nm NSR-S610C,具有該行業(yè)最高投影透鏡數(shù)值孔徑(1.30NA) 的ArF浸沒式掃描儀已被運送到IC生產(chǎn)商。該系統(tǒng)旨在大量生產(chǎn)45納米儀器,還可以被用來開發(fā)32納米儀器和雙圖形儀器。之所以在激烈的競爭中選擇NSR-S610C是因為其早期市場推廣和尼康所歷經(jīng)考驗的硅片無缺陷及其與干式系統(tǒng)相似的套準精度打印浸沒式底片的能力。 尼康精密設(shè)備公司總裁Kazuo Ushida說:“2006年是尼康浸沒式項目最有成就的一年”?!耙辉路荩覀冞\送了世界上第一批浸沫系統(tǒng):NSR-S609B。一年里,通過演示我們在浸沫領(lǐng)域的領(lǐng)導(dǎo)者水平,與競爭對手產(chǎn)品的直接比較,在許多方面我們已取得了勝利。通過一年的奮斗,與客戶一起評估, 我們確保了主要IC制造商業(yè)務(wù)。NSR-S610C的運送更加鞏固了我們在浸入技術(shù)方面的領(lǐng)導(dǎo)者地位?!? NSR-S610C是建立在尼康浸沫專業(yè)技術(shù)之上的。尼康局部填充技術(shù)能夠消除掃描導(dǎo)致的浸沒缺陷、氣泡、水漬或晶圓背部玷污。該項技術(shù)還能消除浸沒液體的蒸發(fā),從而有力于防止由浸液導(dǎo)致的套準問題。尼康的Tandem Stage采用具有不同功能的雙工件臺提高產(chǎn)能,精度以及長期穩(wěn)定性。
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