“工欲善其事,必先利其器?!卑雽?dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展離不開(kāi)裝備制造業(yè)的支撐。由于技術(shù)門檻高,長(zhǎng)期以來(lái),世界半導(dǎo)體裝備制造的高端關(guān)鍵設(shè)備被國(guó)外幾家大公司所壟斷,特別是超高精度的刻蝕設(shè)備。
在國(guó)家重大科技專項(xiàng)的支持下,中微半導(dǎo)體設(shè)備有限公司成功研制生產(chǎn)65納米到40納米的介質(zhì)刻蝕機(jī),并成功打入國(guó)際市場(chǎng),改變了世界關(guān)鍵刻蝕設(shè)備領(lǐng)域的競(jìng)爭(zhēng)格局,有力提升了我國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的國(guó)際競(jìng)爭(zhēng)力。
什么是65納米到40納米的介質(zhì)刻蝕機(jī)?與老百姓的生活有什么關(guān)系呢?
中微半導(dǎo)體設(shè)備有限公司董事長(zhǎng)兼首席執(zhí)行官尹志堯博士形象地解釋說(shuō):“如果將第一次工業(yè)革命比作‘機(jī)械代替人手’的革命,除了宏觀材料、能源動(dòng)力外,人類發(fā)明了機(jī)床、銑床、刨床等關(guān)鍵設(shè)備,打造了一個(gè)傳統(tǒng)的‘宏觀加工’工業(yè);60年前由美國(guó)硅谷開(kāi)始的第二次工業(yè)革命就是‘電腦代替人腦’的革命,微觀材料的制造和微觀加工是這次革命的核心技術(shù),我們開(kāi)發(fā)的刻蝕設(shè)備就如同微觀加工的機(jī)床、銑床、刨床?!?/p>
“和‘宏觀加工’不同的是,‘微觀加工’是在頭發(fā)絲的幾千分之一的尺度上實(shí)現(xiàn)的。一臺(tái)等離子體刻蝕設(shè)備一年要加工幾十萬(wàn)億個(gè)微觀結(jié)構(gòu),而加工的精確度,均勻性和重復(fù)性卻必須達(dá)到頭發(fā)絲的幾萬(wàn)分之一。”尹志堯解釋說(shuō)。
在日常生活中,幾乎所有的現(xiàn)代化電器都離不開(kāi)芯片。芯片是集成電路(IC)的載體??瓷先ネ挥小爸讣咨w”一樣大小的芯片,制造工藝多達(dá)數(shù)百個(gè)步驟,共需要十大類微觀加工設(shè)備。光刻機(jī)、刻蝕機(jī)、化學(xué)薄膜機(jī)是其中最為關(guān)鍵的三個(gè)微觀加工設(shè)備。
小小的芯片由較大的“晶圓”分割而成。中微公司生產(chǎn)的65納米到40納米介質(zhì)刻蝕機(jī)的加工對(duì)象就是一個(gè)個(gè)看上去像“圓碟子”形狀的“晶圓”。
“晶圓的生產(chǎn)加工就好比在這個(gè)‘圓碟子’上蓋十幾層的微觀高樓、修建微觀高速公路、構(gòu)筑微觀立交橋。”尹志堯形象地比喻說(shuō),“首先在‘圓碟子’上鋪上一層化學(xué)薄膜或金屬薄膜,再涂上一層光刻膠,用光刻機(jī)曝光并洗相后曝露出需要加工的表面,再用刻蝕機(jī)進(jìn)行雕琢。目前,我們的刻蝕設(shè)備在生產(chǎn)線上可以最小加工65納米到40納米的微觀結(jié)構(gòu)。在最新的技術(shù)開(kāi)發(fā)中,最小可以刻蝕32納米到28納米的微觀結(jié)構(gòu)?!?/p>
由于采用了獨(dú)特的創(chuàng)新設(shè)計(jì),中微半導(dǎo)體刻蝕機(jī)既可加工單片“晶圓”,也可以同時(shí)加工兩片“晶圓”,而國(guó)外的高端刻蝕設(shè)備只能加工單片“晶圓”。由于中微刻蝕設(shè)備具有較強(qiáng)的芯片加工性能、較小的占地面積、較高的產(chǎn)出效率、較低的成本,在與國(guó)際最先進(jìn)的同類設(shè)備“正面交鋒”中,得到了國(guó)際半導(dǎo)體芯片廠的廣泛認(rèn)可。
經(jīng)過(guò)壁壘很高的市場(chǎng)引入期,目前中微刻蝕設(shè)備已成功打入國(guó)際市場(chǎng),進(jìn)入亞洲8家海外客戶的生產(chǎn)線,已加工了150多萬(wàn)片“晶圓”。在國(guó)際一流芯片制造廠商生產(chǎn)線上,大量工藝驗(yàn)證表明,中微產(chǎn)品不僅各項(xiàng)刻蝕性能指標(biāo)達(dá)到國(guó)外同類產(chǎn)品的水平,而且同等設(shè)備投資的芯片產(chǎn)出效率比國(guó)外同類產(chǎn)品高出30%以上。
經(jīng)過(guò)慎重比較選擇,目前亞洲很多芯片廠都選用了中微公司生產(chǎn)的刻蝕設(shè)備。國(guó)際上領(lǐng)先的芯片生產(chǎn)廠商也已經(jīng)給中微批量訂單,中微很快可以達(dá)到上億美元的年產(chǎn)值。
中微公司研發(fā)的等離子體刻蝕機(jī)還先后10余次在中國(guó)、美國(guó)、歐洲、新加坡等地獲得知名獎(jiǎng)項(xiàng)。包括2009年美國(guó)舊金山由業(yè)界權(quán)威雜志國(guó)際半導(dǎo)體《Semiconductor?。桑睿簦澹颍睿幔簦椋铮睿幔臁奉C發(fā)的 “2009 Best?。校颍铮洌酰悖簟豹?jiǎng),這是國(guó)際上過(guò)去三年中唯一的刻蝕設(shè)備領(lǐng)域獲獎(jiǎng)產(chǎn)品。
半導(dǎo)體設(shè)備研發(fā)和制造涉及到50多個(gè)學(xué)科和技術(shù)專業(yè)領(lǐng)域的交叉配合,投入資金大,研制時(shí)間長(zhǎng),僅靠風(fēng)險(xiǎn)投資是遠(yuǎn)遠(yuǎn)不夠的?!爸形⒆鳛橐患矣珊M鈿w國(guó)人員2004年創(chuàng)辦的公司,在上海市政府的大力支持下,能承擔(dān)國(guó)家重大科技專項(xiàng),我們感到十分榮幸,也深感責(zé)任重大。”尹志堯說(shuō),“模仿國(guó)外技術(shù),我們雖然可以制作同樣的設(shè)備,但是遠(yuǎn)遠(yuǎn)不夠的,也是沒(méi)有出路的。我們必須通過(guò)技術(shù)的自主創(chuàng)新,開(kāi)發(fā)出比國(guó)際半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)超前的產(chǎn)品?!?/p>
據(jù)介紹,中微公司在刻蝕設(shè)備生產(chǎn)領(lǐng)域,除了繼續(xù)開(kāi)發(fā)精度更高的納米級(jí)芯片生產(chǎn)的刻蝕設(shè)備外,還正在開(kāi)發(fā)將廣泛用于以單晶硅為底物的硅通孔刻蝕設(shè)備以及用于半導(dǎo)體照明芯片生產(chǎn)的金屬有機(jī)化合物沉積設(shè)備(MOCVD),同時(shí)積極致力于推動(dòng)我國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備的部件本土化。
尹志堯說(shuō):“國(guó)家舉辦‘十一五’重大科技成就展,并將重大科技成果的背后故事展示在老百姓面前,我感到十分及時(shí),也非常有必要,必將會(huì)吸引政府和民間更大的投入,也將會(huì)吸引更多的年輕人投身到我國(guó)科技創(chuàng)新工作中?!?/p>