GDM300晶圓研磨(Wafer Grinding)衡鵬
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GDM300晶圓研磨(Wafer Grinding)衡鵬
—采用全自動(dòng)系統(tǒng),從后磨到貼裝的連續(xù)過程
GDM300晶圓研磨(Wafer Grinding)特長:
采用全自動(dòng)系統(tǒng),從后磨到貼裝的連續(xù)過程,可研磨至25um厚度。
2個(gè)磨頭階段,產(chǎn)量幾乎是1個(gè)磨頭系統(tǒng)的兩倍。
內(nèi)置修邊系統(tǒng)可作為薄型晶圓加工的選擇。
雙指標(biāo)體系,拋光階段和研磨階段完全分離,滿足TSV和MEMS工藝所需的清潔。
超亮度小于Ra1A,可超鏡面。
GDM300晶圓研磨(Wafer Grinding)相關(guān)產(chǎn)品:
衡鵬供應(yīng)
GNX200BP晶圓研磨/晶圓減薄/晶圓拋光/晶圓背拋/Wafer Grinding
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GNX200BP晶圓研磨是一