1月28日，荷蘭光刻機制造商ASML官方宣布，收購其競爭對手荷蘭代爾夫特的光刻機制造商Mapper的知識產(chǎn)權(quán)資產(chǎn)。同時，ASML的官方聲明中還寫到，將為Mapper在研發(fā)和產(chǎn)品裝配方面的高技能員工提供合適的職位。ASML總裁兼首席執(zhí)行官PeterWennink表示：“我們非常尊重Mapper的專家，他們表現(xiàn)出極大的創(chuàng)造力和足智多謀。ASML重視他們的專業(yè)知識，我們期待著歡迎他們加入我們的組織?！?/p>

ASML官方聲明

能夠讓光刻機巨頭ASML如此青睞，這個Mapper公司到底是什么來頭？

天堂和地獄僅一步之遙

作為ASML的競爭對手，Mapper在2018年12月份被證實正式宣布破產(chǎn)，公司擁有270名員工和眾多電子束光刻機相關(guān)的IP。

Mapper曾經(jīng)以為自己找到了半導(dǎo)體制造行業(yè)的痛點，無奈研發(fā)能力跟不上，最終錯過了好時機。和Mapper電子束光刻機對應(yīng)的就是傳統(tǒng)光刻，將掩模放置在光源和硅片之間，光線通過掩模照射到硅片上，使得掩模上的線條圖形按一定比例縮小轉(zhuǎn)移到硅片上。這個過程需要循環(huán)反復(fù)多次，加上晶圓制造需要多層光刻，一顆芯片可能要六十次以上，這樣就造成了掩模的成本非常高昂，進而導(dǎo)致制造一顆新的芯片的成本急劇上升。

Mapper為了降低芯片制造商在掩模上的高昂費用，以及讓光刻突破光波長的限制，選擇使用電子束替代光源。電子束具有很高的分辨率、較大的焦深與靈活性。Mapper設(shè)備通過使用電子束書寫而不再需要掩模，讓芯片成本有望實現(xiàn)明顯下降。

但是，電子束也有自身的缺陷，就是速度比光源光刻要慢很多，Mapper通過大量增加電子束的數(shù)量來解決這個難題。光刻機的分辨率通常在十幾納米至幾微米之間，這就需要極高的工藝來保證幾十萬個電子束能夠精準(zhǔn)的控制，研發(fā)和制造的難度都極大。

2009年，有外媒報道，由于技術(shù)上的原因，Mapper原計劃交付給臺積電的300mm光刻設(shè)備延期，當(dāng)時給出的延期時間是一個季度，讓臺積電的制程研發(fā)受到了影響。而當(dāng)時臺積電準(zhǔn)備轉(zhuǎn)入的工藝制程是32nm。隨著工藝不斷精進，以及芯片上電路日益復(fù)雜，控制精度和電子束數(shù)量增長帶來的難度并不亞于EUV光刻機光源功率的增加，Mapper顯然沒有攻克難題。

2011年，當(dāng)時的代工三巨頭臺積電、英特爾和格羅方德其實更傾向于無掩模光刻技術(shù)，認為無掩模技術(shù)顯得更適合作為下一代光刻技術(shù)使用。但是，由于無掩模技術(shù)，包括電子束光刻的研發(fā)遇到了困境，三家公司才又將目光移回到EUV光刻，此前由于擔(dān)心EUV光刻成本太高以及曝光率等問題三家公司對此并不熱情。

所以，16nm成了光源光刻和電子束光刻的分水嶺，ASML從此名震天下，拿到光刻機市場78%的份額，Mapper一蹶不振以至于破產(chǎn)被收購資產(chǎn)。ASML的EUV光刻機是目前市場上最先進的設(shè)備，能夠用于晶圓代工廠的7nm制程，其他廠商在這一點上難以望其項背。

ASML的“壟斷地位”得到鞏固

在2018年底，ASML只是眾多對Mapper收購感興趣的公司之一，如今如愿以償?shù)玫組apper的IP和員工，ASML可謂是如虎添翼。

首先，光刻機行業(yè)是技術(shù)壁壘極高的行業(yè)，能夠吸納Mapper的人才，解決了ASML的人才招聘苦惱。PeterWennink表示：“Mapper員工也將有機會參與我們激動人心且具有挑戰(zhàn)性的下一代芯片制造計劃，即EUV和EUVHigh-NA。多年來積累的Mapper的知識產(chǎn)權(quán)和知識現(xiàn)在將用于荷蘭的進一步創(chuàng)新?！?/p>

另外，雖然EUV光刻機已經(jīng)量產(chǎn)出售給客戶，但是EUV光刻機需要250瓦的光源和125WPH的效率，這讓設(shè)備的生產(chǎn)受到極大的限制，也讓設(shè)備的成本非常的高昂。并且250瓦光源只能支撐到5nm，到了3nm將需要500瓦的光源，這對ASML的研發(fā)提出極高的挑戰(zhàn)。

因此，收購Mapper的IP無疑給自己的未來增加了更多的可能。

ASML有一個規(guī)定值得大家注意，那就是只有投資ASML，才能夠獲得優(yōu)先供貨權(quán)。ASML可以借助客戶的投資在EUV光源和電子束光刻上雙管齊下，保證自己在光刻機行業(yè)的壟斷地位。

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