隨著半導(dǎo)體大廠先進(jìn)制程芯片競爭日益升溫,EUV光刻機(jī)成為市場“香餑餑”,引發(fā)業(yè)界關(guān)注。
目前,英特爾率先拿到了ASML High-NA EUV光刻機(jī)設(shè)備,并于近期宣布該臺光刻機(jī)完成組裝。三星也不甘示弱,表示將與ASML EUV光刻機(jī)組件供應(yīng)商蔡司聯(lián)手,在EUV領(lǐng)域深化合作。與此同時(shí),ASML第二臺High-NA EUV光刻機(jī)也傳出交付的消息,但買家成謎。
三星與蔡司聯(lián)手,深化EUV合作
韓媒報(bào)道,三星電子的執(zhí)行董事長李在镕(Jay Y. Lee)近期在德國會(huì)見了蔡司總裁兼首席執(zhí)行官卡爾·蘭普雷希特(Karl Lamprecht)及其他公司高管。
會(huì)議上,雙方同意擴(kuò)大在EUV技術(shù)和尖端半導(dǎo)體設(shè)備研發(fā)方面的合作,以增強(qiáng)兩家公司在晶圓代工代工和存儲芯片領(lǐng)域的業(yè)務(wù)競爭力。通過這次合作,三星希望提升下一代半導(dǎo)體技術(shù),優(yōu)化芯片制造流程,提高先進(jìn)芯片的生產(chǎn)良率。
蔡司還計(jì)劃到2026年投資480億韓元在韓國建設(shè)研發(fā)中心,加強(qiáng)同三星等韓企的戰(zhàn)略合作。
資料顯示,蔡司是光學(xué)與光電解決方案開發(fā)商,也是光刻機(jī)大廠ASML EUV光刻機(jī)獨(dú)家供應(yīng)商,每臺EUV光刻機(jī)中包含了三萬多個(gè)由蔡司提供的組件。蔡司在EUV技術(shù)方面擁有超過2000項(xiàng)核心專利,其掌握的技術(shù)可以在高性能先進(jìn)芯片生產(chǎn)中發(fā)揮重要作用。
未來,三星電子和蔡司將進(jìn)一步擴(kuò)大雙方在EUV技術(shù)和先進(jìn)半導(dǎo)體設(shè)備相關(guān)領(lǐng)域的合作。
ASML第二臺High NA EUV光刻機(jī)已交付?
近期,英特爾表示完成ASML High NA EUV光刻機(jī)的安裝,已進(jìn)入光學(xué)系統(tǒng)校準(zhǔn)階段。這是ASML生產(chǎn)的首臺High NA EUV光刻機(jī),價(jià)值高達(dá)3.5億歐元,英特爾計(jì)劃用該款設(shè)備生產(chǎn)1.8nm以下的先進(jìn)制程芯片。
媒體報(bào)道,除了英特爾以外,臺積電、三星、美光等廠商也向ASML訂購了High NA EUV光刻機(jī)。ASML財(cái)報(bào)中透露,今年第一季度公司新增訂單金額為36億歐元,其中6.56億歐元為EUV光刻機(jī)訂單。近期ASML對外交付了第二臺High NA EUV光刻機(jī),但未透露買家信息。
目前兩臺High NA EUV光刻機(jī)并無法滿足市場對先進(jìn)制程芯片的需求,未來ASML還計(jì)劃生產(chǎn)更多高端光刻機(jī)設(shè)備。