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運(yùn)動平臺在真空環(huán)境中的應(yīng)用 超高真空 (UHV) 光柵助力提升穩(wěn)定性

時間:2021-10-25 12:40:06來源:RENISHAW 雷尼紹

導(dǎo)語:?在工業(yè)界有不少制程需要在真空環(huán)境下進(jìn)行,許多高精密產(chǎn)品在制造過程中也必需使用程度不一的真空技術(shù);產(chǎn)品最后在大氣環(huán)境下使用。典型應(yīng)用包括顯示面板中薄膜和基板之間的精密貼合制程、半導(dǎo)體制程中的薄膜濺鍍、晶圓檢測等等。任何相關(guān)的零組件都必須滿足真空環(huán)境的要求。 韓國運(yùn)動平臺制造商 VAD Instrument(以下簡稱 VAD)為了滿足其精密制程設(shè)備對真空規(guī)格的嚴(yán)格要求,采用雷尼紹 TONiC 系列超高真空 (UHV) 光柵系統(tǒng),借此提升平臺的整體精度和穩(wěn)定性。

 1 真空應(yīng)用與要求

  “真空”的基本定義是指某一空間內(nèi)的氣體分子透過外力將其移走,使氣壓下降小于大氣,從而產(chǎn)生真空。在實(shí)驗(yàn)室或工廠中制造真空的方法是利用泵在密閉的空間中(一般叫真空腔)抽出空氣以達(dá)到不同純度的真空,一般分為低真空、中等真空、高真空或超高真空。

  許多精密工業(yè)制程都必需在真空環(huán)境下進(jìn)行,目的是減少任何氣體份子在制程中對加工品的影響。而制程中所涉及到的相關(guān)運(yùn)動控制零組件如導(dǎo)軌,基體等金屬材料,以及電機(jī)散熱問題,則需要經(jīng)過嚴(yán)格考慮,并采用兼容真空環(huán)境的光柵系統(tǒng)。

  在真空環(huán)境中應(yīng)用的光柵部件都必需經(jīng)過特殊設(shè)計,包括耐高溫——真空腔需要加熱到100°C或以上以縮短抽真空和獲取較高等級的真空度所需要的時間;高潔凈度——光柵組件需要特殊包裝和運(yùn)輸,因?yàn)榻M件上任何污染物如機(jī)油, 油脂,甚至指紋在真空中都會釋出氣體,影響直空度;降低整體氣體量釋出——讀數(shù)頭電路板、黏膠或漆料中含有的塑料(含揮發(fā)性溶劑),在真空中都會釋出氣體,不僅導(dǎo)致所釋出細(xì)小顆?;蚧覊m對加工品造成損壞,而且會導(dǎo)致真空室中的壓力明顯上升。

精密平臺用于AOI設(shè)備.png

  精密平臺用于 AOI 設(shè)備

  2 TONiC UHV超高真空兼容光柵

  VAD主要為客戶開發(fā)客制化的精密運(yùn)動平臺,當(dāng)中包括提供給需要在真空環(huán)境下工作的制程設(shè)備。目前VAD大部份平臺型號均采用雷尼紹TONiC系列光柵系統(tǒng),視乎精度要求配置不同種類的柵尺。VAD總裁Song, Baek-Kyun先生說道:“VAD一般平臺型號配置RTLC系列鋼帶柵尺,如果涉及真空應(yīng)用、像顯示面板AOI檢測設(shè)備或半導(dǎo)體制程設(shè)備等,我們會配置更高精度的RELM系列柵尺,配置兼容真空的TONiC讀數(shù)頭,連接到位于真空腔外的接口。另外我們開發(fā)用于半導(dǎo)體EUV光刻機(jī)的膜板檢測設(shè)備,由于精度要求達(dá)到ppm等級,需要采用雷尼紹高端的RLE系列激光尺定位系統(tǒng),激光發(fā)射頭安裝在XY平臺上,而雷尼紹是市場上少數(shù)可以提供性能穩(wěn)定的激光尺之一?!?/p>

  雷尼紹TONiC UHV超高真空兼容光柵系列,從讀數(shù)頭、電纜到柵尺都是必需經(jīng)過專門設(shè)計,真空壓力高達(dá)10- 10 Torr,讀數(shù)頭配置RFI屏敝線纜,其基本工作原理,規(guī)格性能與我們在大氣壓下使用的標(biāo)準(zhǔn)型TONiC型號無異,但是UHV光柵的讀數(shù)頭在設(shè)計上消除了氣密孔,并且由高潔凈的真空兼容材料和粘合劑特制而成,以避免對加工產(chǎn)品質(zhì)量造成損壞。而雷尼紹直空型光柵也獲得獨(dú)立的專業(yè)檢驗(yàn)機(jī)構(gòu)鑒定,包括殘留氣體分析(RGA)光譜測試,在整個生產(chǎn)過程中確保在清潔的條件下進(jìn)行,并有專門設(shè)計的包裝運(yùn)輸以避免污染。

  3 近乎零的熱膨脹系數(shù)柵尺

  TONiC是雷尼紹最多樣的光柵型號之一,可搭配多款不同特性的柵尺,包括適合在真空環(huán)境應(yīng)用。Song, Baek- Kyun先生解釋他們選擇柵尺的準(zhǔn)則:“我們部份高端機(jī)型, 采用了RELM系列柵尺,主要看中它近乎零的熱膨脹系數(shù), 以確保定位精度在溫差范圍變化大的環(huán)境下得以保持,要知道真空腔的溫差可達(dá)100 °C。雷尼紹的光柵產(chǎn)品在市場上都有良好的口碑,而TONiC系列更是在高端設(shè)備上經(jīng)??吹剿膽?yīng)用,早已得到市場廣泛認(rèn)可。另外雷尼紹的售后服務(wù)做得很到位,定期為我們作產(chǎn)品更新的介紹,最重要的是交貨期也十分準(zhǔn)時,使我們不會因等待零件而得失客戶。”

  半導(dǎo)體真空平臺.png

半導(dǎo)體真空平臺

TONiC UHV光柵系統(tǒng).png  

TONiC UHV 光柵系統(tǒng)

真空平臺配置RLE激光尺系統(tǒng).png  

真空平臺配置 RLE 激光尺系統(tǒng)

XL-80激光干涉儀檢測精密直線平臺.png  

XL-80 激光干涉儀檢測精密直線平臺

  雷尼紹RELM是一款20 μm柵距柵尺,在1 m長度內(nèi)精度高達(dá)±1 μm,以堅固的雷尼紹專利材料ZeroMet制成,其熱膨脹系數(shù)僅為0.75±0.35 μm/m/°C(20 °C時),柵尺可利用背面自帶的不干膠帶進(jìn)行安裝,同時也支持機(jī)械安裝方式以避免不干膠在真空中釋出氣體。

  Song, Baek-Kyun先生繼續(xù)說:“我們看好未來真空應(yīng)用設(shè)備的市場需求,尤其是半導(dǎo)體和顯示面板等精密工業(yè)制程。目前VAD正在開發(fā)更多相關(guān)的制程平臺。在質(zhì)量管控方面,我們正在采用雷尼紹XL-80系列激光干涉儀對設(shè)備出廠前進(jìn)行精度檢測,大大增加了客戶對我們的設(shè)備性能表現(xiàn)的信心?!?/p>

標(biāo)簽: 運(yùn)動控制

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